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提出了一種共光路外差干涉測量模擬磁頭磁盤靜態(tài)間隙的方法,該方法以低頻差橫向塞曼雙頻激光器作為光源,采用專門設(shè)計的雙折射透鏡分光和相位測量技術(shù),實現(xiàn)了對光波半波長的3600細分,從而使測量分辨率達到0.1 nm。原理實驗結(jié)果表明,該系統(tǒng)在無恒溫的普通實驗室條件下,1 h內(nèi)穩(wěn)定測量實驗結(jié)果漂移小于4 nm;利用壓電陶瓷(PZT)微動工作臺(步進分辨率1 nm)驅(qū)動反射鏡(模擬磁頭)產(chǎn)生位移,在1μm范圍內(nèi)與該系統(tǒng)測量結(jié)果進行比對,得到線性相關(guān)系數(shù)優(yōu)于0.9998。
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